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金屬表面處理工藝的發(fā)展歷程
作者: 湖南固特瑞 瀏覽量:1219 發(fā)布時(shí)間:2019-08-01
表面熱處理和化學(xué)熱處理是人們?cè)缇褪褂玫募夹g(shù),20世紀(jì)初,許多物理學(xué)家研究了低壓氣體中的放電現(xiàn)象,后來(lái)這類放電現(xiàn)象不僅是熒光照明工業(yè)的基礎(chǔ),而且也成了等離子熱化學(xué)技術(shù)和等離子鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)。70年代以來(lái),由于電力和電子工程領(lǐng)域取得的進(jìn)展,晶閘管控制的滅弧斷路器的誕生,促進(jìn)了離子滲碳技術(shù)在工業(yè)中的應(yīng)用。物理氣相沉積(PVD)技術(shù)由最初的真空蒸鍍到1963年離子鍍技術(shù)的應(yīng)用,并與“濕法”電鍍技術(shù)展開(kāi)了有力的競(jìng)爭(zhēng)。化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)也從原來(lái)用于高純金屬的精煉以及半導(dǎo)體和磁性薄膜的制造,逐步成為金屬材料表面強(qiáng)化技術(shù)的一個(gè)重要手段,尤其是用于硬質(zhì)合金和合金鋼工模具表面的涂覆。利用荷能離子與材料表面的相互作用,改變表面成分和結(jié)構(gòu),從而改善性能的離子注入技術(shù),不僅用于電子工業(yè)以及無(wú)機(jī)非金屬材料和有機(jī)高分子材料的表面改性,也是金屬材料表面強(qiáng)化的重要途徑。后來(lái)人們又將離子注入和鍍膜技術(shù)結(jié)合起來(lái),發(fā)展出新穎的離子束合成薄膜技術(shù)。
自20世紀(jì)60年代以來(lái),激光和電子束等新熱源具有能量集中、加熱迅速、加熱層薄、自激冷卻、變形很小、無(wú)需淬火介質(zhì)、有利環(huán)境保護(hù)、便于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化等優(yōu)點(diǎn),因而在金屬材料表面強(qiáng)化方面的應(yīng)用越來(lái)越廣泛。
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